1991：논문, 잡지, 책
1.Oxidation Process of Hydrogen Terminated Silicon Surface Studied by Thermal Desorption Spectroscopy
- Norikuni Yabumoto, Kazuyuki Saito, Mizuho Morita* and Tadahiro Ohmi*
- NTT LSI Laboratories, *Faculty of Engineering,Tohoku University
- Jpn.J.Appl.Phys.,30,L419(1991)
2. 새로운 승온이탈가스 분석장치 개발과 VLSI재료및 프로세스평가의 응용
- 히라시타 노리오, 미오카 츠네오, 히나가 야스시*
- 오키전기공업(주) 초LSI개발센터 *전자과학(주)
- 진공,34,813(1991)
～ 1991：학회요지
１．세정실리콘 표면의 물성과 그 해석
- 야부모토 슈호, 사이토 가즈유끼, 모리타 미즈호*, 오마 타다히로
- NTT LSI연구, * 도호쿠대학 공학부
- 1991 전자정보통신학회 춘곕전국대회요지집,5-331,(1991)：SC-9-1
발표년도 불명：논문, 잡지, 책
1.APIMS를 이용한 승온이탈가스분석
- 미조카미 가즈노리, 나카노 가즈오, 고이케죠지, 오가와데츠야
- 히다치토레이 전자장치사업부
- 히다치토레이 TECHNICAL REPORT,11,10(????)
2. 승온이탈가스분석법(TDS)의 응용
- 토레이 리서치센터
- 토레이 리서치센터
- 기술정보
3.Improved Interconnect Yield Through Surface Control By Silylation (SCS) Method
- K.Yano, M.Yamanaka, Y.Terai, T.Sugiyama, M.Kubota, M.Endo and N.Nomura
- Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.
- Symposium 1993 on VLSI Technology
4.전계동박에의 극박주석멕키의 확산거동
- 야마시타 마사루, 오오쿠마 히데오*
- (주)아이테스 신뢰성・재료기술부, 일본IBM(주) 노슈사업부 액정기술부株
- 출전불명
5.사르퍼의 퇴적을 이용한 이방성 에칭
- 가토무라 신고, 다츠미 데츠야, 나가야마 데츠지, 사토우 준이치
- 소니(주)
- Semiconductor World 12：1993년1월
6.승온열이탈분석장치에 의한 Si웨이퍼표면의 유기물평가
- 오카다 치즈코, 류타 지로, 신교지 다깡유키
- 미쯔비시 머티어리얼(주) 중앙연구소
- 출전불명
7.MODEL STUDIES OF DIELECTRIC THIN FILM GROWTH CVD DEPOSITION OF SiO2 FROM TEOS
- J.E.Crowell, H-C.Cho, F.M.Cascarano, L.L.Tedder and M.A.Logan*
- Department of Chemistry, University of California, San diego, *Lam Reserch Corporation, Advanced Research Center
- 출전불명
8.Evaluation of adsorbed molecules on silicon wafers
- Norikuni YABUMOTO
- NTT Interdisciplinary Research Laboratories
- 출전불명
9.TDS를 이용한 O2+H2O다운플로어 코로젼 억제기구의 검토
- 고지리 히데히로, 마츠오 지로*, 와타나베 고지, 나까무라 모리타카
- 후지쯔 *후지쯔연구소
- 전자정보통신학회기술연구보고. SDM, 실리콘재료・디바이스 94(11), 39-46, 1994-04-21
10. 실리콘웨이퍼 표면의 흡착성분－승온이탈법에 의한 분석
- 야부모토 슈호
- NTT LSI연
- 출전불명
발표년도 불명：학회요지
1.착색 하이드로키시 아파타이트의 캐릭터리제션
- 이시가와 쯔요시
- 아사히공업(주) 뉴세라믹사업부
- 아파타이트 연구회
2.Recovery of Useful Hydrocarbons from Oil Palm Waste Using ZrO2 Supporting FeOOH Catalyst
- Takao MASUDA, Yumi KONDO, Masahiro MIWA, Shin R. MUKAI, Kenji HASHIMOTO and *Mikio TAKANO
- Division of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University and *Institute for Chemical Research, Kyoto University
- Book of Abstracts, 16th International Symposium on Chemical Reaction Engineering
3.SiO2홀 내에서 에칭표면반응
- 히라시타 노리오, 이케가미 나오카즈
- 오키전기공업(주) 초LSI연구개발센터
- 제44회반도체전문강습회예습집,139