1991：Literature, Journals, Books
1.Oxidation Process of Hydrogen Terminated Silicon Surface Studied by Thermal Desorption Spectroscopy
- Norikuni Yabumoto, Kazuyuki Saito, Mizuho Morita* and Tadahiro Ohmi*
- NTT LSI Laboratories, *Faculty of Engineering,Tohoku University
- Jpn.J.Appl.Phys.,30,L419(1991)
2.新しい昇温脱離ガス分析装置の開発とVLSI材料及びプロセス評価への応用
- 平下紀夫, 味岡恒夫, 日永康*
- 沖電気工業(株) 超LSI開発センター, *電子科学(株)
- 真空,34,813(1991)
Before 1991：Society abstracts
1.洗浄シリコン表面の物性とその解析
- 藪本周邦, 斎藤和之, 森田瑞穂*, 大見忠弘*
- NTT LSI研究所, *東北大学 工学部
- 1991 電子情報通信学会春季全国大会要旨集,5-331,(1991)：SC-9-1
Announcement Year Unknown：Literature, Journals, Books
1.APIMSを用いた昇温脱離ガス分析
- 溝上員章, 中野和男, 小池譲治, 小川哲也
- 日立東エレ 電子装置事業部
- 日立東エレ TECHNICAL REPORT,11,10(????)
2.昇温脱離ガス分析法(TDS)の応用
- 東レリサーチセンター
- 東レリサーチセンター
- Technical Information
3.Improved Interconnect Yield Through Surface Control By Silylation (SCS) Method
- K.Yano, M.Yamanaka, Y.Terai, T.Sugiyama, M.Kubota, M.Endo and N.Nomura
- Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.
- Symposium 1993 on VLSI Technology
4.電界銅箔への極薄錫メッキの拡散挙動
- 山下勝, 大熊秀雄*
- (株)アイテス 信頼性・材料技術部, 日本アイ・ビー・エム(株) 野洲事業所 液晶技術部
- 出典不明
5.サルファーの堆積を用いた異方性エッチング
- 門村新吾, 辰巳哲也, 長山哲治, 佐藤淳一
- ソニー(株)
- Semiconductor World 12：1993年01月
6.昇温熱脱離分析装置によるSiウェーハ表面の有機物評価
- 岡田千鶴子, 龍田次郎, 新行内隆行
- 三菱マテリアル(株) 中央研究所
- 出典不明
7.MODEL STUDIES OF DIELECTRIC THIN FILM GROWTH CVD DEPOSITION OF SiO2 FROM TEOS
- J.E.Crowell, H-C.Cho, F.M.Cascarano, L.L.Tedder and M.A.Logan*
- Department of Chemistry, University of California, San diego, *Lam Reserch Corporation, Advanced Research Center
- 出典不明
8.Evaluation of adsorbed molecules on silicon wafers
- Norikuni YABUMOTO
- NTT Interdisciplinary Research Laboratories
- 出典不明
9.TDSを用いたO2+H2Oダウンフローのコロージョン抑制機構の検討
- 小尻英博, 松尾二郎*, 渡辺孝二, 中村守孝
- 富士通, *富士通研究所
- 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 94(11), 39-46, 1994-04-21
10.シリコンウェハ表面の吸着成分－昇温脱離法による分析
- 藪本周邦
- NTT LSI研
- 出典不明
Announcement Year Unknown：Society abstracts
1.着色ハイドロキシアパタイトのキャラクダリゼーション
- 石川剛
- 旭光学工業(株) ニューセラミックス事業部
- アパタイト研究会
2.Recovery of Useful Hydrocarbons from Oil Palm Waste Using ZrO2 Supporting FeOOH Catalyst
- Takao MASUDA, Yumi KONDO, Masahiro MIWA, Shin R. MUKAI, Kenji HASHIMOTO and *Mikio TAKANO
- Division of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University and *Institute for Chemical Research, Kyoto University
- Book of Abstracts, 16th International Symposium on Chemical Reaction Engineering
3.SiO2ホール内でのエッチング表面反応
- 平下紀夫, 池上尚克
- 沖電気工業(株) 超LSI研究開発センタ
- 第44回半導体専門講習会予稿集,139