～1991 - ESCO, Ltd.

1991：Literature, Journals, Books

1.Oxidation Process of Hydrogen Terminated Silicon Surface Studied by Thermal Desorption Spectroscopy

• Norikuni Yabumoto, Kazuyuki Saito, Mizuho Morita* and Tadahiro Ohmi*
• NTT LSI Laboratories, *Faculty of Engineering,Tohoku University
• Jpn.J.Appl.Phys.,30,L419(1991)

2.新しい昇温脱離ガス分析装置の開発とVLSI材料及びプロセス評価への応用

• 平下紀夫, 味岡恒夫, 日永康*
• 沖電気工業(株) 超LSI開発センター, *電子科学(株)
• 真空,34,813(1991)

Before 1991：Society abstracts

1.洗浄シリコン表面の物性とその解析

• 藪本周邦, 斎藤和之, 森田瑞穂*, 大見忠弘*
• NTT LSI研究所, *東北大学 工学部
• 1991 電子情報通信学会春季全国大会要旨集,5-331,(1991)：SC-9-1

Announcement Year Unknown：Literature, Journals, Books

1.APIMSを用いた昇温脱離ガス分析

• 溝上員章, 中野和男, 小池譲治, 小川哲也
• 日立東エレ 電子装置事業部
• 日立東エレ TECHNICAL REPORT,11,10(????)

2.昇温脱離ガス分析法(TDS)の応用

• 東レリサーチセンター
• 東レリサーチセンター
• Technical Information

3.Improved Interconnect Yield Through Surface Control By Silylation (SCS) Method

• K.Yano, M.Yamanaka, Y.Terai, T.Sugiyama, M.Kubota, M.Endo and N.Nomura
• Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.
• Symposium 1993 on VLSI Technology

4.電界銅箔への極薄錫メッキの拡散挙動

• 山下勝, 大熊秀雄*
• (株)アイテス 信頼性・材料技術部, 日本アイ・ビー・エム(株) 野洲事業所 液晶技術部
• 出典不明

5.サルファーの堆積を用いた異方性エッチング

• 門村新吾, 辰巳哲也, 長山哲治, 佐藤淳一
• ソニー(株)
• Semiconductor World 12：1993年01月

6.昇温熱脱離分析装置によるSiウェーハ表面の有機物評価

• 岡田千鶴子, 龍田次郎, 新行内隆行
• 三菱マテリアル(株) 中央研究所
• 出典不明

7.MODEL STUDIES OF DIELECTRIC THIN FILM GROWTH CVD DEPOSITION OF SiO2 FROM TEOS

• J.E.Crowell, H-C.Cho, F.M.Cascarano, L.L.Tedder and M.A.Logan*
• Department of Chemistry, University of California, San diego, *Lam Reserch Corporation, Advanced Research Center
• 出典不明

8.Evaluation of adsorbed molecules on silicon wafers

• Norikuni YABUMOTO
• NTT Interdisciplinary Research Laboratories
• 出典不明

9.TDSを用いたO2+H2Oダウンフローのコロージョン抑制機構の検討

• 小尻英博, 松尾二郎*, 渡辺孝二, 中村守孝
• 富士通, *富士通研究所
• 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 94(11), 39-46, 1994-04-21

10.シリコンウェハ表面の吸着成分－昇温脱離法による分析

• 藪本周邦
• NTT LSI研
• 出典不明

Announcement Year Unknown：Society abstracts

1.着色ハイドロキシアパタイトのキャラクダリゼーション

• 石川剛
• 旭光学工業(株) ニューセラミックス事業部
• アパタイト研究会

2.Recovery of Useful Hydrocarbons from Oil Palm Waste Using ZrO2 Supporting FeOOH Catalyst

• Takao MASUDA, Yumi KONDO, Masahiro MIWA, Shin R. MUKAI, Kenji HASHIMOTO and *Mikio TAKANO
• Division of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University and *Institute for Chemical Research, Kyoto University
• Book of Abstracts, 16th International Symposium on Chemical Reaction Engineering

3.SiO2ホール内でのエッチング表面反応

• 平下紀夫, 池上尚克
• 沖電気工業(株) 超LSI研究開発センタ
• 第44回半導体専門講習会予稿集,139