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光照熱脫附質譜儀 - ESCO | 電子科學股份有限公司

光照熱脫附質譜儀

光照熱脫附質譜儀的特點

光照熱脫附質譜儀(PSD)是一種用真空紫外線(120-400納米)照射樣品,并用質譜儀觀察從其最表面脫附的分子的分析儀。


通過掃描照射波長,可以了解每個波長的脫附成分的差異,并可用于分析樣品表面的污染物,樣品最表面的結構,以及樣品真空紫外線對樣品的影響等。

 

此外,利用熱支持功能,可以觀察指定溫度下的光照熱脫附現象,有助于設計用于半導體,顯示器,太陽能電池等的熱和光工藝。

赤光励起脱離分析装置

進料固定室設備

我們的分析儀裏,都配備了進料固定室,以提高測量效率和維持高真空環境。

真空紫外線光源

在氬氣中由Nd3+:YAG激光器產生的激光激發等離子體產生從真空紫外線到可見光的寬波長的光。用衍射光柵分光的單色聚光照射樣品,引起每個照射波長的脱附。波長掃描可以設置為從長波長到短波長或從短波長到長波長。

熱支持型

真空紫外線照射引起的光照熱脫附是通過增加溫度來促進的。利用我們的TDS技術,我們可以在一定溫度下保持樣品并進行真空紫外線照射。

光脫附質譜儀的結構

光脫附質譜儀由產生真空紫外線的真空紫外光源部分和檢測從樣品中脫附的成分的測量部分組成。

 

 

VUV光源部
光照熱脫附質譜儀結構圖

真空紫外光源

向填充有氬氣的光源腔室中導入Nd3+:YAG激光器時,氬氣被激發,產生等離子體。這種激光激發等離子體發射從真空紫外到可見區域的寬波長的光。通過用衍射光柵分光的單色光照射樣品,觀察每個照射波長的脫附。可用波長由安裝的衍射光柵決定,但本裝置件的標準規格為120至400納米。

進料固定室

進料固定室是提高測量效率(高吞吐量)和靈敏度的關鍵。我們的進料固定室和樣品輸送機制使我們能夠將樣品快速地導入超高真空分析室。
如果沒有進料固定室,則每次交換樣品時,分析室都必須對空氣開放,但一旦開放空氣,分析室中就會吸附大量的空氣成分(特別是水分),并需要很長的時間才能完全排出。

分析室

由于真空紫外線照射而產生的光照熱脫附是通過增加溫度來促進的。利用我們的TDS技術,我們可以在一定溫度下保持樣品并進行真空紫外線照射。

分析室的配置與升溫脫附質譜儀一樣。即使在高溫區域,也可以在抑製背景水平上升最小化的情況下加熱樣品。真空紫外光源部的分光室和測定部的分析腔通過MgF2的帶窗法蘭隔開連接。

 

最外錶麵與頂麵有機物分析 光照熱脫附質譜儀-最外錶麵與頂麵有機物分析
光照熱脫附原理 光照熱脫附原理
取得的數據例 取得的數據例 (PMMA的光脫附) (獲取數據例(PET的光脫附))
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