1991：論文・雜誌・書籍
1.Oxidation Process of Hydrogen Terminated Silicon Surface Studied by Thermal Desorption Spectroscopy
- Norikuni Yabumoto, Kazuyuki Saito, Mizuho Morita* and Tadahiro Ohmi*
- NTT LSI Laboratories, *Faculty of Engineering,Tohoku University
- Jpn.J.Appl.Phys.,30,L419(1991)
2.新型升溫脫離氣體分析裝置的開發和在VLSI材料及工藝評價中的應用
- 平下紀夫, 味岡恒夫, 日永康*
- 沖電工業（株）超大規模集成電路開發中心，*電子科學（株）
- 真空,34,813(1991)
～1991：學會要旨
1.清洗矽表面的物理性質及其分析
- 藪本周邦, 斎藤和之, 森田瑞穂*, 大見忠弘*
- NTT LSI研究所, *東北大學工學部
- 1991 電子信息通信學會春季全國大會要旨集,5-331,(1991)：SC-9-1
發布年份不詳:論文・雜誌・書籍
1.使用APIMS的升溫熱脫附氣體分析
- 溝上員章, 中野和男, 小池譲治, 小川哲也
- 日立東愛勒電子設備事業部
- 日立東愛麗 TECHNICAL REPORT,11,10(????)
2.升溫熱脫附氣體分析法（TDS）的應用
- 東麗研究中心
- 東麗研究中心
- Technical Information
3.Improved Interconnect Yield Through Surface Control By Silylation (SCS) Method
- K.Yano, M.Yamanaka, Y.Terai, T.Sugiyama, M.Kubota, M.Endo and N.Nomura
- Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.
- Symposium 1993 on VLSI Technology
4.超薄鍍錫向電場銅箔的擴散行為
- 山下勝, 大熊秀雄*
- (株)日本Ites信賴性·材料技術部, 日本I.B.M(株) 野洲事業所液晶技術部
- 來源不詳
5.使用硫化物堆積的各向異性蝕刻
- 門村新吾, 辰巳哲也, 長山哲治, 佐藤淳一
- 索尼公司
- Semiconductor World 12：1993年01月
6.利用升溫熱脫離分析儀對Si晶圓表面的有機物評價
- 岡田千鶴子, 龍田次郎, 新行内隆行
- 三菱材料株式會社中央研究所
- 來源不詳
7.MODEL STUDIES OF DIELECTRIC THIN FILM GROWTH CVD DEPOSITION OF SiO2 FROM TEOS
- J.E.Crowell, H-C.Cho, F.M.Cascarano, L.L.Tedder and M.A.Logan*
- Department of Chemistry, University of California, San diego, *Lam Reserch Corporation, Advanced Research Center
- 來源不詳
8.Evaluation of adsorbed molecules on silicon wafers
- Norikuni YABUMOTO
- NTT Interdisciplinary Research Laboratories
- 來源不詳
9.使用了TDS的O2+H2O向下流動的腐蝕抑制機構的研究
- 小尻英博, 松尾二郎*, 渡辺孝二, 中村守孝
- 富士通, *富士通研究所
- 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, 矽材料器件 94(11), 39-46, 1994-04-21
10.矽晶片表面吸附成分-升溫熱脫附法分析
- 藪本周邦
- NTT LSI研究所
- 來源不詳
發布年份未知：學會要旨
1.著色羥基磷灰石的特性評価
- 石川剛
- 旭光學工業（株）新陶瓷事業部
- 磷灰石研究會
2.Recovery of Useful Hydrocarbons from Oil Palm Waste Using ZrO2 Supporting FeOOH Catalyst
- Takao MASUDA, Yumi KONDO, Masahiro MIWA, Shin R. MUKAI, Kenji HASHIMOTO and *Mikio TAKANO
- Division of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University and *Institute for Chemical 特性評価 Research, Kyoto University
- Book of Abstracts, 16th International Symposium on Chemical Reaction Engineering
3.SiO2孔中的蝕刻表面反應
- 平下紀夫, 池上尚克
- 沖電工業超大規模集成電路研究開發中心
- 第44回半導體專業講習會預備稿集,139