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装置を汚染するサンプル

装置を汚染するサンプル

昇華しやすい金属(蒸気圧が高い金属)を含むサンプル

金属を多量に昇華させるとQMS分析管や真空計、ビューポートに蒸着し、性能劣化や故障の恐れがあります。

 

また、チャンバー内壁やパーツにも蒸着するので、チャンバー表面の清浄度が低下し脱ガスが多くなります。

この場合にはチャンバー内壁のクリーニングやパーツ交換が必要となります。

蒸気圧が高いZnやMgは低温で昇華するので、特に注意が必要です。

 

蒸気圧が高い金属の例(Zn, Mg, Pb, In, Mn, Ga, Ag, Sn, Al, Cuなど)

ハロゲンを含むサンプル

ハロゲン(特にフッ素)を含む成分が脱離すると、ハロゲンがメインチャンバー内や検出器内に滞留してしまいます。

有機化合物を含むサンプル

多量の有機化合物を分解温度以上に加熱すると熱分解を起こし、分解成分が飛散してメインチャンバー内や検出器を汚染します。

メインチャンバーのベーキングやクリーニング、パーツの交換が必要となります。

多量のガスを放出するサンプル

装置を汚染しない成分であってもターボ分子ポンプやQMSの許容圧力を超える量のガスを放出するサンプルの測定は、ターボ分子ポンプやQMSの故障の原因となります。

 

 

汚染の可能性があるサンプルを測定する場合、事前測定を行うことを推奨します。

・昇温速度を遅くする。(毎分10℃程度)
・BarモードやScanモードとする。

・試料量を極力少なくする。

・上記のような成分が検出された場合、それ以上に温度を上げない。

 

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