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~1991

1991:論文・雑誌・本

1.Oxidation Process of Hydrogen Terminated Silicon Surface Studied by Thermal Desorption Spectroscopy

  • Norikuni Yabumoto, Kazuyuki Saito, Mizuho Morita* and Tadahiro Ohmi*
  • NTT LSI Laboratories, *Faculty of Engineering,Tohoku University
  • Jpn.J.Appl.Phys.,30,L419(1991)

2.新しい昇温脱離ガス分析装置の開発とVLSI材料及びプロセス評価への応用

  • 平下紀夫, 味岡恒夫, 日永康*
  • 沖電気工業(株) 超LSI開発センター, *電子科学(株)
  • 真空,34,813(1991)

~1991:学会要旨

1.洗浄シリコン表面の物性とその解析

  • 藪本周邦, 斎藤和之, 森田瑞穂*, 大見忠弘*
  • NTT LSI研究所, *東北大学 工学部
  • 1991 電子情報通信学会春季全国大会要旨集,5-331,(1991):SC-9-1

発表年不明:論文・雑誌・本

1.APIMSを用いた昇温脱離ガス分析

  • 溝上員章, 中野和男, 小池譲治, 小川哲也
  • 日立東エレ 電子装置事業部
  • 日立東エレ TECHNICAL REPORT,11,10(????)

2.昇温脱離ガス分析法(TDS)の応用

  • 東レリサーチセンター
  • 東レリサーチセンター
  • Technical Information

3.Improved Interconnect Yield Through Surface Control By Silylation (SCS) Method

  • K.Yano, M.Yamanaka, Y.Terai, T.Sugiyama, M.Kubota, M.Endo and N.Nomura
  • Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.
  • Symposium 1993 on VLSI Technology

4.電界銅箔への極薄錫メッキの拡散挙動

  • 山下勝, 大熊秀雄*
  • (株)アイテス 信頼性・材料技術部, 日本アイ・ビー・エム(株) 野洲事業所 液晶技術部
  • 出典不明

5.サルファーの堆積を用いた異方性エッチング

  • 門村新吾, 辰巳哲也, 長山哲治, 佐藤淳一
  • ソニー(株)
  • Semiconductor World 12:1993年01月

6.昇温熱脱離分析装置によるSiウェーハ表面の有機物評価

  • 岡田千鶴子, 龍田次郎, 新行内隆行
  • 三菱マテリアル(株) 中央研究所
  • 出典不明

7.MODEL STUDIES OF DIELECTRIC THIN FILM GROWTH CVD DEPOSITION OF SiO2 FROM TEOS

  • J.E.Crowell, H-C.Cho, F.M.Cascarano, L.L.Tedder and M.A.Logan*
  • Department of Chemistry, University of California, San diego, *Lam Reserch Corporation, Advanced Research Center
  • 出典不明

8.Evaluation of adsorbed molecules on silicon wafers

  • Norikuni YABUMOTO
  • NTT Interdisciplinary Research Laboratories
  • 出典不明

9.TDSを用いたO2+H2Oダウンフローのコロージョン抑制機構の検討

  • 小尻英博, 松尾二郎*, 渡辺孝二, 中村守孝
  • 富士通, *富士通研究所
  • 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 94(11), 39-46, 1994-04-21

10.シリコンウェハ表面の吸着成分-昇温脱離法による分析

  • 藪本周邦
  • NTT LSI研
  • 出典不明

発表年不明:学会要旨

1.着色ハイドロキシアパタイトのキャラクダリゼーション

  • 石川剛
  • 旭光学工業(株) ニューセラミックス事業部
  • アパタイト研究会

2.Recovery of Useful Hydrocarbons from Oil Palm Waste Using ZrO2 Supporting FeOOH Catalyst

  • Takao MASUDA, Yumi KONDO, Masahiro MIWA, Shin R. MUKAI, Kenji HASHIMOTO and *Mikio TAKANO
  • Division of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University and *Institute for Chemical Research, Kyoto University
  • Book of Abstracts, 16th International Symposium on Chemical Reaction Engineering

3.SiO2ホール内でのエッチング表面反応

  • 平下紀夫, 池上尚克
  • 沖電気工業(株) 超LSI研究開発センタ
  • 第44回半導体専門講習会予稿集,139
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